Runway 推出 Aleph 2.0 與 Edit Studio：只改你想改的區域性畫面
Runway 釋出全新影片編輯模型 Aleph 2.0 並上線 Edit Studio。它支援精準定向修改，使用者調整特定元素時，畫面其餘部分完全不受影響。這直接解決了 AI 影片編輯常誤傷周邊背景的痛點，大幅提升了創作者的控制精度。
Edit Studio
Runway 釋出 Aleph 2.0：改動單幀畫面，自動同步整段影片
Runway 釋出影片編輯工具 Aleph 2.0，已在網頁端全新的 Edit Studio 上線。使用者只需在影片中修改單幀並預覽效果，Aleph 2.0 便會自動將修改連貫應用到整個影片片段，省去了以往逐幀手動調整的繁瑣流程。